史上(shàng)最全的(de)半導體工藝設備彙總

發布時(shí)間：2020-01-16 08:39:20　最後更新：2024-06-14 10:37:03　浏覽次數：9764

半導體業如此巨大(dà)的(de)市場，半導體工藝設備爲(wéi / wèi)半導體大(dà)規模制造提供制造基礎。摩爾定律，給電子(zǐ)業描繪的(de)前景，必将是(shì)未來(lái)半導體器件的(de)集成化、微型化程度更高，功能更強大(dà)。

以(yǐ)下是(shì)半導體生産過程中的(de)主要(yào / yāo)設備。

1、單晶爐

設備名稱：單晶爐。

設備功能：熔融半導體材料，拉單晶，爲(wéi / wèi)後續半導體器件制造，提供單晶體的(de)半導體晶坯。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：德國(guó)PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美國(guó)QUANTUM DESIGN公司、德國(guó)Gero公司、美國(guó)KAYEX公司。

國(guó)内：北京京運通、七星華創、北京京儀世紀、河北晶龍陽光、西安理工晶科、常州華盛天龍、上(shàng)海漢虹、西安華德、中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十八所、上(shàng)海申和(hé / huò)熱磁、上(shàng)虞晶盛、晉江耐特克、甯夏晶陽、常州江南、合肥科晶材料技術有限公司、沈陽科儀公司。

2、氣相外延爐

設備名稱：氣相外延爐。

設備功能：爲(wéi / wèi)氣相外延生長提供特定的(de)工藝環境，實現在(zài)單晶上(shàng)，生長與單晶晶相具有對應關系的(de)薄層晶體，爲(wéi / wèi)單晶沉底實現功能化做基礎準備。氣相外延即化學氣相沉積的(de)一(yī / yì ／yí)種特殊工藝，其生長薄層的(de)晶體結構是(shì)單晶襯底的(de)延續，而(ér)且與襯底的(de)晶向保持對應的(de)關系。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：美國(guó)CVD Equipment公司、美國(guó)GT公司、法國(guó)Soitec公司、法國(guó)AS公司、美國(guó)Proto Flex公司、美國(guó)科特·萊思科（Kurt J.Lesker）公司、美國(guó)Applied Materials公司。

國(guó)内：中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十八所、青島賽瑞達、合肥科晶材料技術有限公司、北京金盛微納、濟南力冠電子(zǐ)科技有限公司。

3、分子(zǐ)束外延系統（MBE，Molecular Beam Epitaxy System）

設備名稱：分子(zǐ)束外延系統。

設備功能：分子(zǐ)束外延系統，提供在(zài)沉底表面按特定生長薄膜的(de)工藝設備；分子(zǐ)束外延工藝，是(shì)一(yī / yì ／yí)種制備單晶薄膜的(de)技術，它是(shì)在(zài)适當的(de)襯底與合适的(de)條件下，沿襯底材料晶軸方向逐層生長薄膜。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：法國(guó)Riber公司、美國(guó)Veeco公司、芬蘭DCA Instruments公司、美國(guó)SVTAssociates公司、美國(guó)NBM公司、德國(guó)Omicron公司、德國(guó)MBE-Komponenten公司、英國(guó)Oxford Applied Research（OAR）公司。

國(guó)内：沈陽中科儀器、北京彙德信科技有限公司、紹興匡泰儀器設備有限公司、沈陽科友真空技術有限公司。

4、氧化爐（VDF）

設備名稱：氧化爐。

設備功能：爲(wéi / wèi)半導體材料進行氧化處理，提供要(yào / yāo)求的(de)氧化氛圍，實現半導體預期設計的(de)氧化處理過程，是(shì)半導體加工過程的(de)不(bù)可缺少的(de)一(yī / yì ／yí)個(gè)環節。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：英國(guó)Thermco公司、德國(guó)Centrotherm thermal solutions GmbH Co.KG公司。

國(guó)内：北京七星華創、青島福潤德、中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十八所、青島旭光儀表設備有限公司、中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十五所。

5、低壓化學氣相澱積系統（LPCVD，Low Pressure Chemical Vapor Deposition System）

設備名稱：低壓化學氣相澱積系統

設備功能：把含有構成薄膜元素的(de)氣态反應劑或液态反應劑的(de)蒸氣及反應所需其它氣體引入LPCVD設備的(de)反應室，在(zài)襯底表面發生化學反應生成薄膜。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：日本日立國(guó)際電氣公司、

國(guó)内：上(shàng)海馳艦半導體科技有限公司、中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十八所、中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十五所、北京儀器廠、上(shàng)海機械廠。

6、等離子(zǐ)體增強化學氣相澱積系統（PECVD，Plasma Enhanced CVD）

設備名稱：等離子(zǐ)體增強化學氣相澱積系統

設備功能：在(zài)沉積室利用輝光放電，使其電離後在(zài)襯底上(shàng)進行化學反應，沉積半導體薄膜材料。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：美國(guó)Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國(guó)泛林半導體（Lam Research）公司、荷蘭ASM國(guó)際公司。

國(guó)内：中國(guó)電子(zǐ)科技集團第四十五所、北京儀器廠、上(shàng)海機械廠。

7、磁控濺射台（Magnetron Sputter Apparatus）

設備名稱：磁控濺射台。

設備功能：通過二極濺射中一(yī / yì ／yí)個(gè)平行于(yú)靶表面的(de)封閉磁場，和(hé / huò)靶表面上(shàng)形成的(de)正交電磁場，把二次電子(zǐ)束縛在(zài)靶表面特定區域，實現高離子(zǐ)密度和(hé / huò)高能量的(de)電離，把靶原子(zǐ)或分子(zǐ)高速率濺射沉積在(zài)基片上(shàng)形成薄膜。

主要(yào / yāo)企業（品牌）：

國(guó)際：美國(guó)PVD公司、美國(guó)Vaportech公司、美國(guó)AMAT公司、荷蘭Hauzer公司、英國(guó)Teer公司、瑞士Platit公司、瑞士Balzers公司、德國(guó)Cemecon公司。